Eindhoven University of Technology, PO Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands,Holst Centre / IMEC The Netherlands, PO Box 8550, 5605 KN Eindhoven, The Netherlands;
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机译:使用H_2O和O_2血浆氧化剂通过等离子体增强原子层沉积在低温下ZnO薄膜的生长
机译:通过在每个生长周期中使用三脉冲前体在100至180摄氏度的不同温度下原子层沉积制备的ZnO薄膜
机译:衬底温度对原子层沉积制备的ZnO薄膜微结构和光致发光性能的影响
机译:用PT纳米粒子涂覆的原子层沉积制备ZnO膜的O_2和CO的室温检测
机译:用原子层沉积制备的高表面积钛酸盐(Atioα3)薄膜的研究
机译:原子层沉积制备Al掺杂ZnO和ZnAl2O4薄膜的电学和光学性质
机译:原子层沉积制备Al掺杂ZnO和ZnAl2O4薄膜的电学和光学性质