thermal aberration; aberration control; lithography exposure system;
机译:开发用于光刻曝光系统的稳定的极紫外光源
机译:极紫外光刻曝光系统开发进展
机译:用于光刻透镜的热像差补偿的有源镜头
机译:KrF光刻曝光系统的跨场波前像差与受激准分子激光带宽的关系
机译:热诱导结晶光刻工艺的发展。
机译:通过热压印光刻技术设计和制造基于环的PDMS软探针用于生物系统中的传感和驱动力。
机译:开发用于193nm浸没式光刻的高折射率抗蚀剂