resist stripping; positive-tone diazonaphthoquinone; novolak resist; laser irradiation; laser damage; Si wafer;
机译:UV激光辐照去除正性重氮萘醌/酚醛清漆抗性
机译:使用可见光至近红外波长的激光辐照剥离正性重氮萘醌/酚醛清漆
机译:使用可见光至近红外波长的激光辐照剥离正性重氮萘醌/酚醛清漆
机译:激光去除正色调重氮萘醌/酚醛清漆,而不发生激光诱导的硅晶片损坏
机译:高电阻率硅块体和绝缘体上硅片的表征。
机译:直接激光熔化硅晶片上的硅外延生长
机译:使用激光照射从红外波长可见的激光照射剥离正色调二氮萘醌/酚醛清漆抗蚀剂
机译:用于干式显影正极性抗蚀剂的高硅含量甲硅烷基化试剂,适用于极紫外(13.5 nm)和深紫外(248 nm)微光刻