maskless lithography; grid effect; numerical aperture; diffractive optical element; beam shaping element;
机译:基于DMD的实时无掩模光刻技术制造连续浮雕微光学元件
机译:基于DMD的无掩模光刻中Dammann光栅的快速原型设计
机译:基于数字微镜器件(DMD)和双面微透镜和空间滤波器阵列的无掩模光刻
机译:基于DMD的无掩模灰度光刻系统的3D光刻工艺优化方法
机译:基于方法耦合和特征跟踪的用于计算流体动力学的高效过冲网格技术。
机译:基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
机译:基于DMD的无掩模灰度光刻系统的3D光刻工艺优化方法
机译:使用和无源光源阵列以及聚焦元件阵列的无掩模光刻系统和方法。