(Ba0.7Sr0.3)(Ti0.9Zr0.1)O3; plasma treatment; dielectric constant; leakage current;
机译:氧等离子体处理对(Ba_(0.7)Sr_(0.3))(Ti_(0.9)Zr_(0.1))O_3薄膜电学性能的影响
机译:脉冲激光沉积对氧气压力对Mn掺杂Bi0.5NA0.5TiO3-BATIO3薄膜电性能的影响
机译:氧处理和温度对硅外延Nb掺杂SRTIO3薄膜电性能的影响
机译:常规退火过程中(Ba0.7Sr0.3)(Ti0.gZr0.1)O3薄膜的电和物理性质
机译:氧同位素对La1-xCaxMnO3外延薄膜电输运性能的影响
机译:氧响应对BiFe0.95Mn0.05O3薄膜的畴动态和局部电学特性的压电响应力显微镜和导电原子力显微镜研究
机译:臭氧处理对(Ba0.7Sr0.3)TiO3薄膜电学性能的影响