Hook Shaped Idsat; Inter Layer Dielectric; Tensile layer;
机译:通过对高K栅极电介质进行原子层蚀刻来改善金属栅极/高K电介质CMOSFET的特性
机译:2.5D T形钩编织复合结构的弯曲/拉伸测试和模拟
机译:在不同制造技术(HBT,CMOS)的高K介电材料中掺入Ge及其对器件电学特性的影响
机译:高拉伸层电介质对0.13um CMOS技术钩形IDSAT特性的影响
机译:低k材料作为CMOS中的层间电介质:沉积和处理对N沟道MOSFET特性的影响。
机译:具有气溶胶沉积的高K介电层的叉指电容器在电容式超感测应用中具有最高的电容值
机译:采用0.13um siGe BiCmOs技术的数字控制阈值调整电路,用于接收高达80Gbps的多电平信号