193 nm resists; PEB sensitivity; PAG; acid diffusion; process condition;
机译:ArF抵抗成分和工艺条件对PEB灵敏度的影响
机译:ARF(193nm)曝光过程中ARF CA抗蚀剂的分配研究
机译:ArF(193 nm)暴露期间ArF CA抗蚀剂脱气的研究
机译:ArF抗蚀剂的PEB敏感性研究(Ⅱ):聚合物和溶剂效应
机译:单层组件中结构和反应性的研究:1.链烷硫醇盐自组装单层在Au上的臭氧分解。 2.超薄金膜的面内电阻率是一种高灵敏度的液-金属界面化学吸附分子区分探针。
机译:生殖系统中心B细胞抵抗Kras独立于肿瘤抑制因子ARF的转化
机译:ARF(193nm)曝光过程中ARF CA抗蚀剂的分配研究
机译:用于arF光刻的酸催化单层抗蚀剂