ion implantation; etching resistance improvement; pattern shrinking; line edge roughness; CD control; KrF resist; ArF resist;
机译:双频叠加电容耦合CF_4 / O_2 / Ar和CF_4 / CHF_3 / O_2 / Ar等离子体中ArF和EUV抗蚀剂蚀刻特性的比较研究
机译:在双频CH_2F_2 / H_2 / Ar电容耦合等离子体中蚀刻具有极端紫外线抗蚀剂图案的氮氧化硅期间的无限蚀刻选择性和线边缘粗糙度变化
机译:在双频CH2F2 / H2 / Ar电容耦合等离子体中蚀刻具有极端紫外线抗蚀剂图案的氮氧化硅期间的无限蚀刻选择性和线边缘粗糙度变化
机译:AR离子植入抗蚀剂抗蚀性改善
机译:主观性,第二/外语的语用和用法:适应和抵制的证据。研究I.模拟和抵制实用规范:学习者的主观性和外语的实用性。研究二。以讲第二语言的人的经历为中心:研究讲第二语言者对SL社区的实用规范的抵制。研究III。基于网络的日语作为外语的语用学教学课程:一种明确的提高认识的方法。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:Ar / O2 / CF4等离子快速蚀刻模塑料并改进半导体封装拆封工艺