机译:化学放大抗蚀剂脱保护反应的活化能:使用原位FT-IR光谱的研究
机译:用于光刻模拟的化学放大抗蚀剂曝光期间的脱保护反应研究
机译:基于极紫外辐射下聚合物脱保护的化学放大抗蚀剂中产生的化学梯度的理论研究
机译:用FT-IR光谱仪用曝光工具分析化学放大抗蚀剂的脱保护反应
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:用于化学扩增抗蚀剂的脱保护反应的激活能量:使用原位FT-IR光谱的研究。