thick-layer resist; SU-8; thickness uniformity; spin coating;
机译:在常见MEMS,微型系统和微电子涂料和材料上的最佳紫外线光刻曝光和灰度剂量的SU-8光致抗蚀剂的用户友好指南
机译:优化静电纺制SU-8负性光致抗蚀剂以产生图案化的碳纳米纤维和纳米珠
机译:试样尺寸和温度对SU-8光刻胶膜粘弹性拉伸性能的影响
机译:SU-8厚层光致抗蚀剂的旋涂性能研究
机译:实习三。将生物活性分子固定在介孔分子筛中并制备定向的MAPO-39膜。实习二。卤化和有机磷化合物的处理,铝涂层的ECAFM研究和钛研磨工艺研究。实习一。用于气体分离的聚-3-(烷基噻吩)膜:结构/性质研究
机译:PFO-DBT纳米棒束通过旋涂的模板化生长:旋涂速率对形态结构和光学性质的影响
机译:挤出 - 旋涂的建模和分析:微光刻中的有效且确定的光刻胶涂覆方法