Layered nitrides; High-Tc; Intercalation; Electron-doping; Hafnium nitride;
机译:电子掺杂层状金属氮化物卤化物MNX中的非常规超导性(M = Ti,Zr,Hf; X = Cl,Br,I)
机译:电子掺杂层状氮化ha在25.5 K处的超导性
机译:对超导电子掺杂层结构的金属氮化物卤化物的取代和共插作用
机译:电子掺杂层状金属氮化物中的超导性
机译:BCl3和HF / XeF2对金属膜,金属氮化物和金属氧化物的原子层蚀刻
机译:勘误:电子掺杂氧化物超导体上单层石墨烯中的p波触发超导
机译:电子掺杂层状金属氮化物的非常规超导电性 卤化物$ m $ N $ X $($ m $ = Ti,Zr,Hf; $ X $ = Cl,Br,I)