MIS-Devices; Electric Admittance; High Temperature; Gas Sensors; Minority Carriers;
机译:一种基于电流 - 电压/电容 - 电压迹线的累积和Si器件中的4H-SiC金属氧化物半导体器件的表征研究与T的平均氧化物场的推导
机译:使用HFO_2和SiO_2栅极电介质的硅和碳化硅基金属氧化物半导体器件
机译:使用HfO_2和SiO_2栅介质的硅和碳化硅基金属氧化物半导体器件
机译:基于6H-和4H-SIC材料的催化金属氧化物 - 碳化硅器件的环境依赖反转电容研究
机译:将碳质材料和金属氧化物化学气相沉积到硅和碳化硅衬底上。
机译:使用基于铟锡氧化物的硅和pn硅结的器件对基于大孔硅的光伏特性进行比较研究
机译:使用硅和碳化硅半导体的高k HfO2基金属氧化物半导体器件
机译:碳化硅基材料的高温发射率。第1卷:碳化硅基材料的高温正常光谱发射率。第2卷。热处理对碳化硅基材料发射率的影响。专题报道