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A novel beam line for sub-keV implants with reduced energy contamination

机译:用于亚KeV植入物的新型光束线,可减少能量污染

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摘要

A high current ion implantation system is described that addresses the needs of the implant community for high beam currents at both high and low energies. The system uses a unique two-magnet design to produce an effectively shortened beam line for production of ions at low energies. The design philosophy, configuration of the machine and some process results are presented.
机译:描述了一种高电流离子注入系统,该系统解决了在高能量和低能量下对于高束流的植入物社区的需求。该系统采用独特的两磁铁设计,可有效缩短电子束线,以产生低能离子。介绍了设计原理,机器配置和一些过程结果。

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