首页> 外文会议> >Microstructure Evolution in Metal-organic Vapor Phase Epitaxy-Grown GaN with Different Low-Temperature Buffer Layer Annealing Time
【24h】

Microstructure Evolution in Metal-organic Vapor Phase Epitaxy-Grown GaN with Different Low-Temperature Buffer Layer Annealing Time

机译:不同低温缓冲层退火时间的金属有机气相外延生长GaN的微观结构演变

获取原文

摘要

Microstructure evolution in MOVPE-grown GaN with different low-temperature-buffer annealing time was investigated. Low-temperature-buffer annealing process was found to effectively modulate the in-plane and out-of-plane misorientation of mosaic blocks, and simultaneously diminish the in-plane crystallite size.
机译:研究了MOVPE生长的GaN在不同的低温缓冲退火时间下的组织演变。发现低温缓冲退火工艺可有效调节镶嵌块的面内和面外取向差,同时减小面内微晶尺寸。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号