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High speed resonant cavity enhanced Ge photodetectors on Si reflecting substrates for 1550 nm operation

机译:用于1550 nm的Si反射衬底上的高速谐振腔增强Ge光电探测器

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摘要

We have fabricated high-speed resonant-cavity-enhanced Ge-on-SOI photodetectors, operating at 1550 nm and demonstrating a 3 dB bandwidth of 12.8 GHz. When optimized, these high-speed detectors should exhibit a quantum efficiency of 75% at 1550 nm.
机译:我们制造了高速谐振腔增强型Ge-on-SOI光电探测器,其工作频率为1550 nm,并具有12.8 GHz的3 dB带宽。经过优化后,这些高速检测器应在1550 nm处显示75%的量子效率。

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