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Numeric computation of proofness of inhomogeneous microstructure elements at the influence of power electromagnetic field IC degradation

机译:电力电磁场IC退化影响下非均质微结构元素的可靠性数值计算

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摘要

A procedure for the numerical calculation of the development of degradation processes in microstructure elements of integrated circuits by the action of electromagnetic fields is presented. The influence of conductive microstructure inhomogeneity parameters upon a threshold value of the electric intensity of an impinging electromagnetic wave is detected.
机译:提出了一种通过电磁场的作用来对集成电路的微结构元件中的降解过程进行发展的数值计算程序。检测导电微结构不均匀性参数对撞击电磁波电强度阈值的影响。

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