Laboratoire de Mecanique des Contacts, UMR CNRS 5514 Institut National des Sciences Appliquees de Lyon Batiment 113,20 Avenue Albert Einstein 69621 Villeurbanne Cedex FRANCE;
机译:微磁在磁记录III记录场中的应用和磁记录写头的磁化分析(1)微磁在磁记录III中的应用
机译:薄膜刚性磁盘和接近记录滑块的声发射研究及其在摩擦学中的应用
机译:在微磁磁性记录III应用于记录钢筋(1)微量磁带的应用III 记录写头的记录场和磁化分析(1)
机译:摩擦和摩擦学:磁记录区域的应用
机译:具有高垂直各向异性的磁性薄膜,用于磁记录介质应用。
机译:热辅助磁记录应用中化学有序化对FePt薄膜的热导率和电子弛豫的影响
机译:薄膜磁记录介质的特殊问题/最近进展和未来。薄膜磁盘保护碳膜的摩擦学。