Electronic stopping; Ion implantation; Silicon carbide; Dopant profiles;
机译:Formvar和Mylar高分子材料对重离子的电子阻止能力:LSS修正理论和Monte Carlo模拟
机译:用于重离子的Formvar和Mylar聚合物材料的电子停止功率:LSS修改理论和蒙特卡罗模拟
机译:从TOF-MEIS和Monte-Carlo计算机仿真获得的Au中慢速(20)Ne离子的电子停止能力
机译:电子停止动力用于蒙特卡罗对SiC的离子植入模拟
机译:随机挥发性下的多维最优停止问题混合蒙特卡罗和部分微分方程方法
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:一种用于分子的现象学电子阻挡力模型 离子注入硅的动力学和monte Carlo模拟
机译:蒙特卡罗电动停止功率模型及离子注入硅的分子动力学模拟