The Role of Ion-assisted Deposition in PVD

机译：离子辅助沉积在PVD中的作用

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An optimal energy interval in ion-assisted deposition of high crystalline films is predicted in the modeling of ion impacting on surface. The result is in good agreement with the presented experiments. The possible application of the evaluation of ion role for the fabrication of potential thin film materials is expected.

机译：在离子对表面的撞击建模中，可以预测高结晶膜的离子辅助沉积中的最佳能量间隔。结果与提出的实验非常吻合。预期在潜在的薄膜材料的制造中评估离子作用的可能应用。

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来源
《International Conference on Thin Film Physics and Applications; 20070925-28; Shanghai(CN)》|2007年|P.iiv|共2页
会议地点 Shanghai(CN)
作者
Z. Q. Ma; C. B. Feng; X. Tang; F. Li; B. He; B. B. Shi;
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作者单位

SHU-SOEN's RD Lab., Department of Physics, Shanghai University, Shanghai, China 200444;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类材料;
关键词
ion-assisted deposition; surface morphology; texture modeling;

机译：离子辅助沉积；表面形貌；纹理建模;
入库时间 2022-08-26 14:21:46

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