Texas Instruments Japan Limited, 2350 Kihara, Mihomura, Inashikigun, Ibaraki-ken, 300-04 Japan;
机译:在化学气相沉积的CO膜的化学机械平坦化中作为互连应用的化学机械平坦化的钾油酸溶解剂
机译:化学气相沉积的钼和钨/氧化钼混合薄膜的结晶用于电致变色应用
机译:低频射频对超大规模集成互连中等离子体增强化学气相沉积超低κ介电膜的影响
机译:化学气相沉积钨互连技术
机译:用于超大规模互连技术的非晶态氮化钨的化学气相沉积。
机译:可扩展合成少数层2D钨丁烯烯(2h-wse2)纳米胸底直接在钨(w)箔上生长使用环境压力化学气相沉积来反转锂离子贮存
机译:化学气相沉积钨膜应力对沉积参数的依赖性
机译:掺杂浓度对硅上化学气相沉积钨中隧道形成的影响。