Semiconductor Materials/Devices Laboratory, Department of Ceramic Engineering, Myong Ji University, 38-2 Yongin, Kyunggi 449-728, Korea;
etching rate; photoelectrochemical (PEC) etching; surface roughness;
机译:无需电偏压的电解质H_2O_2水溶液和H_2的太阳能光电化学合成
机译:用于高级CMOS处理的H_2O_2 / HCl溶液中的In_(0.53)Ga_(0.47)As纳米蚀刻
机译:基于HF的解决方案对再生晶圆上铜去除效率的研究
机译:金属辅助化学蚀刻工艺期间蚀刻溶液与多晶硅硅晶片表面的润湿性
机译:超声波清洗电解质溶液中的晶圆:电声和空化效应的可能作用
机译:全石墨烯湿度传感器的水基溶液处理和晶圆级集成
机译:HF基溶液中金属污染物在晶片表面的沉积特性