Korea Institute of Industrial Technology, Songdo-Dong 7-47, Yonsoo-Gu, Incheon, 406-130, Korea;
pressure-assisted master sintering surface; silicon nitride; activation energy; hot pressing;
机译:压力辅助氮化硅主烧结表面
机译:基于液相烧结主烧结曲线理论的氮化硅烧结行为分析
机译:压力辅助主烧结表面的应用
机译:氮化硅的压力辅助主烧结表面
机译:氮化硅液相烧结的烧结参数的确定。
机译:放电等离子体烧结氮化硅陶瓷的微观结构
机译:基于液相烧结母烧结曲线理论的氮化硅烧结行为分析
机译:开发一种经过统计验证的反应键合氮化硅注射成型方法,烧结反应键合氮化硅和烧结氮化硅。最终报告,1985年7月1日至1986年6月30日