IBM @ Albany Nanotech, 255 Fuller Rd., Albany, NY 12203, USA;
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机译:浆料注射系统位置对浅沟槽隔离化学机械平坦化使用二氧化铈浆料的去除率的影响
机译:使用基于二氧化硅的分散体对锗浅沟槽隔离结构进行化学机械平面化
机译:使用含草酸或柠檬酸的过氧化氢基二氧化硅浆料在浅沟槽隔离(STI)模板结构中对图案化的InP进行化学机械平面化
机译:基于二氧化铈和三氧化硅基浆料的比较研究32nm浅沟槽隔离化学机械平面化
机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
机译:化学机械平面化过程中浆料混合程度和可用性的浆料注入方案
机译:浅沟渠隔离和替代栅极技术化学机械平面化的替代优化技术