Institute of Materials Science and Engineering VII, University Erlangen, Cauerstr. 6, 91058 Erlangen, Germany;
misfit; critical thickness; dislocation nucleation; dislocation annihilation; wurtzite glide systems; group-Ill nitrides; Ge-Si;
机译:薄膜氮化物中位错的起源和性质
机译:氮化铬,氮化钼和氮化钨薄膜的结构和力学性能
机译:氮化物薄膜中倾斜和位错的电子背散射衍射和电子通道对比度成像
机译:薄膜氮化物中位错的起源和性质
机译:外延氮化钛/氮化铌和钒(0.6)铌(0.4)氮化物(0.4)/氮化铌超晶格薄膜的成核,结构和力学性能
机译:溅射参数和铜的掺杂对聚合物基底上铁和氮化铁纳米薄膜表面自由能和磁性能的影响
机译:薄膜氮化物中位错的来源及性质
机译:反应离子镀制备氮化钛和氮化锆薄膜的结构与性能