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【24h】

A Multilevel FeFET Memory Device based on Laminated HSO and HZO Ferroelectric Layers for High-Density Storage

机译:基于层状HSO和HZO铁电层的多层FeFET存储器件用于高密度存储

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摘要

We report 1-3 bit/cell FeFET operation through optimized HSO and HZO ferroelectric laminate layers using alumina interlayers. Memory window up to 3.5V, switching speed of 300ns, 10 years retention, and 10
机译:我们通过使用氧化铝夹层的优化的HSO和HZO铁电层压层报告了1-3位/单元的FeFET操作。内存窗口高达3.5V,切换速度为300ns,保留10年,并且10

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