Department of Electronics and Communication Engineering Thapar University Patiala Punjab 147004;
Departrnent of Metallurgical Engineering Materials Science Indian Institute of Technology Bombay Mumbai 400076 India;
Substrates; Conductivity; Zinc oxide; Optical films; Sputtering; X-ray scattering;
机译:射频磁控溅射和离子束溅射制备的AZO / Cu / AZO三层膜的结构,光学和电学性质
机译:基板旋转速度和偏心沉积对直流磁控溅射制备的AZO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:热退火对磁控溅射沉积的偶氮薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:RF磁控溅射生长参数对偶氮膜表面形态学,结构,电气和光学性质的影响
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:基板转速和偏心沉积对DC磁控溅射制备的偶氮薄膜结构,光学和电性能的影响