Electrical Engineering and Computer Sciences, University of California Berkeley;
机译:基于反应扩散模型的16nm CMOS技术节点的BTI引起的平面MOSFET和FinFET寿命可靠性的比较研究
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机译:先进技术节点上平面和FinFET D触发器的SEU响应比较
机译:在先进技术节点的高性能电路中,FinFET在Planar MOSFET上有一点已知的益处
机译:用于亚22纳米节点数字CMOS逻辑技术的基于锗的量子阱沟道MOSFET的工艺集成和性能评估
机译:具有嵌入式校准方案的动态pH传感器采用先进的CMOS FinFET技术
机译:两步嵌入式siGe s / D工程对32 nm技术节点及其超前pmOsFET的影响