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Reflective infrared spectra of PECVD thin films on glass substrate

机译:玻璃基板上PECVD薄膜的反射红外光谱

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摘要

In order to use a reflective FTIR measurement to evaluate thinfilms deposited on glass substrate, we have to consider several improtant factors, such as surfce polarization, phase shift, and interference from different interfaces. PECVD thinfilms, oxide, nitride and a-Si:H deposited on top of the glass substrate are discussed by the reflective FTIR meeasurement.
机译:为了使用反射式FTIR测量来评估沉积在玻璃基板上的薄膜,我们必须考虑几个重要因素,例如表面极化,相移和来自不同界面的干扰。通过反射FTIR测量讨论了沉积在玻璃基板顶部的PECVD薄膜,氧化物,氮化物和a-Si:H。

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