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SUB-QUARTER-MICRON PMOSFET DC AND AC NBTI DEGRADATION

机译:准四分之一微米PMOSFET直流和交流NBTI退化

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摘要

NBTI becomes the reliability limit for PMOSFETs in advanced technologies. In this paper, the channel length, channel width, gate pulse frequency and duty cycle effect on 0.13/0.24 μm technology PMOSFET NBTI lifetime are studied. Both the lifetime (5 mV V_T shift) and the worst-case DC threshold voltage shift in 10 years are extracted. The degradation mechanism and frequency dependent conversion factor between AC and DC degradation are also studied based on the experiment data.
机译:NBTI成为先进技术中PMOSFET的可靠性极限。本文研究了沟道长度,沟道宽度,栅极脉冲频率和占空比对0.13 / 0.24μm技术PMOSFET NBTI寿命的影响。提取寿命(5 mV V_T偏移)和10年中最坏情况下的DC阈值电压偏移。根据实验数据,研究了交流和直流电之间的退化机理和频率相关的转换因子。

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