Chair for General Materials Science, Faculty of Engineering, Christian- Albrechts- University of Kiel, 24143 Kiel, Germany;
机译:薄n-Si晶片中大孔刻蚀前沿的不均匀性
机译:HF水溶液中n-Si(100)表面各向异性电化学刻蚀形成大孔阵列的区域选择性形成
机译:在有机电解质中阳极氧化时在N-Si中形成大孔
机译:含醇的电解质对n-si麦克脂蚀刻的影响
机译:非水电解质中硅的光电化学蚀刻。
机译:使用FFT阻抗谱分析p-Si大孔蚀刻
机译:使用FFT阻抗谱分析p-Si大孔蚀刻