Department of Physics, La Trobe University, Bundoora 3086, Australia;
x-ray lithography; space-to-feature ratio; development rate; dimensional error; taguchi optimisation;
机译:X射线光刻中工艺参数和堆积密度对密集堆积高纵横比SU-8微结构显影时间的影响
机译:工艺参数和堆积密度对X射线光刻中高堆积比高密度SU-8微结构尺寸误差的影响
机译:高长宽比SU-8微结构的后烘烤过程及其对UV光刻的影响
机译:压缩,高纵横比SU-8使用X射线光刻的过程优化
机译:开发制造高长径比的聚对二甲苯微结构的方法。
机译:高纵横比和三维SU-8微/纳米结构的单光子多层干涉光刻
机译:具有优先磁方向的高纵横比超顺磁sU-8微结构的喷墨印刷
机译:用软X射线光刻技术制备高纵横比区域板的研究进展