ECE Dept. Univ. of Texas at Austin, Austin, TX USA 78712;
ECE Dept. Univ. of Texas at Austin, Austin, TX USA 78712;
ECE Dept. Univ. of Texas at Austin, Austin, TX USA 78712,Institute of Microelectronics, Peking University, Beijing, China 100871;
ECE Dept. Univ. of Texas at Austin, Austin, TX USA 78712;
机译:自对准双图案感知引脚访问和标准单元布局共同优化
机译:自对准双图案的光刻友好分解方法
机译:具有EUV自对准双重图案化的关键亚30纳米间距Mx电平图案化的自对准阻挡集成演示
机译:考虑放置冲击的标准单元库自我对齐双图案化配置
机译:自对准双图案的蚀刻研究
机译:自对准支持的脂质双层用于图案化细胞 - 基底界面
机译:标准单元的自对准双图案友好配置 图书馆考虑安置
机译:图书馆期刊可用性对个人和图书馆订阅安置和取消的影响