【24h】

A primer of physical design for lithographers

机译:光刻师的物理设计入门

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

In the SPIE Microlithography DFM conference, the number of papers related to physical design has been steadily increasing in the last few years. Since the majority of the audience in this conference has a background in lithography, some of the physical d
机译:在SPIE Microlithography DFM会议上,与物理设计相关的论文数量在最近几年一直稳定增长。由于本次会议的大多数观众都具有光刻技术,因此一些物理

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号