Department of Material Science and Technology, Tokyo University of Science, 2641, Yamazaki, Noda 278-8510, Japan;
Department of Material Science and Technology, Tokyo University of Science, 2641, Yamazaki, Noda 278-8510, Japan;
Department of Mechanical Engineering, Osaka University, 2-1, Yamadaoka, Suita, Osaka 565-0871, Japan;
Department of Science and Technology, Iwaki Meisei University, 5-5-1, Chuodai-Iino, Iwaki 970-8551, Japan;
Department of Science and Technology, Iwaki Meisei University, 5-5-1, Chuodai-Iino, Iwaki 970-8551, Japan;
机译:使用双悬臂梁测试通过聚焦离子束诱导化学气相沉积制备的纳米柱的非线性大挠度
机译:聚焦离子束化学气相沉积法制备类金刚石碳的场发射特性与材料特性的关系
机译:Ga聚焦离子束化学气相沉积制备W掺入类金刚石碳的退火效应
机译:通过聚焦离子束辅助化学气相沉积制造的金刚石状碳纳米金布尔弯曲性能的尺寸影响
机译:通过等离子体辅助化学气相沉积制备的类金刚石碳膜的热降解和摩擦学行为。
机译:通过热化学气相沉积法在金属基底上合成的碳纳米管CNTs的物理和电化学性质
机译:低温中性光束合成的氮掺杂金刚石状碳膜的结构和电化学性能增强化学气相沉积
机译:四苯基 - 四甲基 - 三硅氧烷(Dow-Corning 704)前驱体蒸发温度对离子束辅助沉积(IBaD)合成的含硅类金刚石碳(si-DLC)涂层性能的影响