Central research lab., Hitachi Ltd., 1-280 Higashi-koigakubo, Kokubunji, Tokyo 185-8601, Japan;
poly-silicon; TFT; crystallization; CW laser;
机译:通过选择性扩大激光倍增技术(SELAX)制造的新型高性能TFT
机译:通过选择性扩大激光倍增技术(SELAX)制造的新型高性能TFT
机译:通过选择性扩大激光倍增技术(SELAX)制造的新型高性能TFT
机译:通过选择性放大激光X'Tallizaion(Selax)技术制造的新型高性能TFT
机译:高激光功率制造的Alsi10mg和Al-Mg-Si合金选择性激光熔化过程的研究
机译:使用选择性激光烧结技术制造的金属陶瓷冠的边缘和内部间隙的评估:二维和三维复制技术
机译:液硅和长脉冲准分子激光制造的单晶硅TFT