Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. (TSMC);
alternating aperture phase shifting mask; defect inspection; defect printability; defect dispositioning;
机译:用于观察极紫外光刻掩模以预测相缺陷可印刷性的高倍成像光学元件特性的模拟分析
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:使用掩模可印刷性分析在交替相位移位面罩上的缺陷配置
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:使用掩蔽信号识别循环交替模式中的相幅耦合
机译:通过使用具有特定相位宽度的交替相移掩模标记进行彗星测量