Institute of Inorganic Chemistry, SB RAS;
plasma chemical vapor deposition; thin films; silicon carbide nitride;
机译:从(二甲基氨基)二甲基硅烷前体进行的远程氢微波等离子体化学气相沉积碳氮化硅膜:膜的工艺,化学结构和表面形态的表征
机译:通过远程氢等离子体化学气相沉积使用氨基硅烷和硅烷前体制备的硬硅碳氮化型薄膜涂层。 1:沉积机构,化学结构和表面形态
机译:碳化硅和碳氮化硅薄膜涂层的远程氢微波等离子体化学气相沉积中有机硅前体的反应性
机译:碳腈薄膜作为来自新型前体的等离子体化学气相沉积获得的新材料
机译:通过聚合物源化学气相沉积合成的非晶碳化硅和碳氮化硅薄膜的表征。机械结构和金属界面性能
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能