Department of Chemistry, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea;
photoacid generator (PAG); PAG polymer; atomic force microscope (AFM); lithography;
机译:用于原子力显微镜光刻的包含光致产酸剂基团的抗蚀剂的合成
机译:原子力显微镜光刻中的叠加计量学研究(原子力显微镜叠加光刻)
机译:电子束光刻用新型含抗光聚合物光酸发生剂的合成
机译:含有原子力显微镜光刻的含有光酸发生器组的抗蚀剂的合成
机译:原子力显微镜用于表征纳米结构和光刻的用途。
机译:高k电介质中的电阻开关的综述:使用导电原子力显微镜的纳米级观点
机译:含有用于原子力显微镜光刻的光酸发生剂组的抗蚀剂的合成
机译:亚微米光刻与原子力显微镜