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Trimmed Gate 型T F E T における超急峻スイッチング特性

机译:修整型T F E T型门的超陡开关特性

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摘要

トンネル電界効果トランジスタ(Tunnel Field-Effect Transistor; TFET)は、ソース−チャネル間のバンド間トンネル現象を利用する事で急峻なサブスレッショルド (SS) 特性を実現する。実際にMOSFET の理論限界であるS 値 (60mV/dec@300K) を下回る特性が報告されており[1]、低消費電力LSI の実現に向けて活発に研究開発が行われている。しかしTFET の急峻なSS 特性は極低電圧領域に限られており、動作電圧の増大に伴いS 値が悪化し、十分なON/OFF 比が得られなくなる。
机译:隧道场效应晶体管(TFET)通过利用源极和沟道之间的带间隧道现象来实现陡峭的亚阈值(SS)特性。实际上,据报道,其特性低于MOSFET的理论极限S值(60 mV / dec @ 300K)[1],并且正在朝着实现低功耗LSI的方向进行积极的研究和开发。然而,TFET的陡峭的SS特性被限制在极低的电压区域,并且S值随着工作电压的增加而劣化,并且不能获得足够的开/关比。

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