角度制御型マグネトロンスパッタリング装置を用いた酸化亜鉛薄膜の作製と成膜条件の検討

摘要

スパッタリング法は構造が緻密な薄膜を連続的且つ再現性良く形成できる特長を持つことから、産業分野において広範な薄膜作製に用いられている。また、スパッタ源の取り付け角度によってスパッタ粒子の入射方向が規定され、その結果、薄膜結晶成長が変化することが知られている。本研究では、酸化亜鉛（ZnO）系積層薄膜作製に向けた新たな取組みとして、スパッタ粒子の入射角度と基板-ターゲット間距離に着目して、ZnO薄膜の構造・物性変化を評価し、成膜条件を検討したので報告する。