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極薄フォトレジストパターンをスペーサーとして利用した有機半導体膜の無溶媒転写形成

机译:使用超薄光刻胶图形作为间隔物的无溶剂转移形成有机半导体膜

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摘要

有機薄膜トランジスタ(OTFT)を基盤とする電子デバイスのコスト削減および大面積製造に向けて, 印刷プロセスや溶液プロセスが注目を集めている。しかしこれらのプロセスは有機半導体薄膜を作製する際, 塩素系溶媒を使用しており人体や環境への悪影響が危惧される. そのため近年, 溶媒を用いないもしくは低環境負荷溶媒を用いるプロセスの研究が頻繁に行われ, すでに多くの成果が報告されている. 我々もn型有機半導体ナフタレンジイミド誘導体(NTCDI-C13)粉末を疎水性ポリイミドフィルムにより直接基板へ転写成膜するプロセスを以前, 本学会にて報告した. 本研究では, 研究室で調製した平滑な表面を持つポリイミドフィルム上に極薄スペーサーを作製し, 有機半導体粉末を大気および真空中で転写パターンニングすることに成功したので報告する.
机译:印刷工艺和解决方案工艺因基于有机薄膜晶体管(OTFT)的电子设备的成本降低和大面积制造而受到关注。然而,这些方法在形成有机半导体薄膜时使用基于氯的溶剂,并且存在对人体和环境产生不利影响的风险。我们已经报道了许多结果。在这个社会上,我们先前还进行了通过疏水性聚酰亚胺膜将n型有机半导体萘二酰亚胺衍生物(NTCDI-C13)粉末直接转移和沉积到基材上的过程。在这项研究中,我们成功地在实验室制备的具有光滑表面的聚酰亚胺薄膜上生产了超薄间隔物,并成功地在空气和真空中对有机半导体粉末进行了转印成型。

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