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シリコン結晶中の低濃度炭素の測定(ⅩⅥ)低温における1×10~(13)cm~(-3)までの赤外吸収測定

机译:硅晶体中低浓度碳的测定(carbonⅥ)低温下从1×10到(13)cm到(-3)的红外吸收测量

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摘要

前回までに、第二世代赤外吸収法により「人工参照試料、フォノン妨害吸収消去、装置の精度と安定性の診断と改善、装置のばらつきに対応した個別換算係数の決定」などで下線の問題を解決し、国内外のポリシリコンメーカなどと共同で検出限界 1×10~(13)atomscm~(-3)・定量限界1x1014cm-3の測定法を実用化し、シリコンメーカや分析サービス会社とネットワークで共有し測定法規格に代えた。既に国内外の主要なメーカは単結晶とポリシリコンを問わず 1×10~(14)cm~(-3)の現在代表的な濃度を赤外吸収により日々測定している。しかし主に装置の精度と安定性の不足によりこれらでも感度・精度の得られない場合がある。その対策の一つに低温測定がある。低温測定は一般にピークが鋭く高くなるため室温測定に比べて感度が良くなる。但し炭素の場合はそれほど顕著でなく一方妨害となるフォノン吸収もそれほど小さくならない。またクライオスタットを使わなくてはならないなど日常的な測定には不利な要素がある。そのためこれまで報告は少なく、15乗以上しか報告されていない。そこで13乗までの測定について検討を行った。
机译:直到最后一次,第二代红外吸收法强调了“人工参比样品,消除声子干扰吸收,诊断和改善设备精度和稳定性,确定与设备变化相对应的单个转换系数”等问题。我们与国内外多晶硅制造商合作,将一种检测限为1×10〜(13)atoms cm〜(-3),定量限为1x1014cm-3的测量方法投入实际使用,并与硅制造商和分析服务公司建立了网络。它由测量标准共享并被其代替。无论是单晶硅还是多晶硅,国内外主要制造商每天都通过红外吸收测量到典型浓度为1×10〜(14)cm〜(-3)。然而,即使在这些情况下,也可能主要由于缺少设备的精度和稳定性而无法获得灵敏度和精度。措施之一是低温测量。由于低温测量通常会有一个尖峰,因此灵敏度要好于室温。但是,就碳而言,它不是那么显着,但是另一方面,干扰声子的吸收却不是那么小。另外,在日常测量中还有一些缺点,例如需要使用低温恒温器。结果,到目前为止,几乎没有报告,并且仅报告了15个或更多的权力。因此,我们检查了直到13次方的测量。

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