The Aerospace Corporation, Physical Sciences Laboratory, 2310 E. El Segundo Blvd., El Segundo, CA 902450;
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Laser material processing; molybdenum disulfide; 2D materials; direct-write processing;
机译:使用射频溅射工艺在各种基底上生长的几层MoS_2薄膜的结构和光学性质
机译:少量MoS_2在X射线吸收过程中元素和位点特定的多体相互作用
机译:少量MoS_2在X射线吸收过程中元素和位点特定的多体相互作用
机译:用多激光工艺方案控制几层MOS2的特性
机译:加工方案对CuAgZr合金的析出机理,组织演变和性能的影响
机译:制备条件和热处理控制的缺陷对多层石墨烯铁磁性能的影响
机译:制备条件和热处理控制缺陷对几层石墨烯铁磁性的影响
机译:用于硬件控制的高速缓存一致性的高速缓存组方案以及大规模多处理器中硬件一致性控制的一般需求。