National Cheng Kung University No.1 University Rd. Tainan 701 Taiwan (R.O.C.) National Institute of Standards and Technology 100 Bureau Gaithersburg MD 20899 USA;
National Cheng Kung University No.1 University Rd. Tainan 701 Taiwan (R.O.C.);
National Institute of Standards and Technology 100 Bureau Gaithersburg MD 20899 USA;
nanosilica; epoxy; degradation; nanocoating; nanocomposite; nanoparticle release; UV radiation;
机译:高温对“云红梨1号”梨中UV-B /可见光辐射导致采后花色苷积累的影响。
机译:紫外光照射聚合物纳米复合材料过程中纳米二氧化硅的表面富集和释放特性
机译:TiO_2纳米粒子对预先暴露于紫外线照射下的淡水绿藻对ROS产生和生长抑制的影响
机译:温度对紫外线辐射的环氧纳米核苷酸表面积聚和释放硅纳米粒子的影响
机译:拉丝工艺和紫外线激光辐照对二氧化硅基预成型坯和光纤缺陷的影响
机译:紫外光下商业化纳米二氧化硅/聚氨酯涂料的表面降解和纳米颗粒释放
机译:在UV暴露下商业纳米碱/聚氨酯涂层的表面降解和纳米颗粒释放
机译:二氧化钛纳米粒子综合混凝土:纳米粒子在暴露于紫外线辐射和潮湿天气条件下的释放评估。