Sandia National Laboratories, Albuquerque, New Mexico 87185 USA;
机译:第四代90 nm SiGe BiCMOS中的单事件效应和潜在的SEU缓解策略研究
机译:RHBD技术使用防护门缓解单事件命中的影响
机译:先进微电子中单事件效应的物理机制
机译:单事件效应的机制和缓解
机译:极简主义的容错技术,用于缓解非辐射硬化微控制器中的单事件影响。
机译:缓解SiGe-HBT电流模式逻辑电路中的单事件效应
机译:IC设计中单事件效果缓解的旋转转矩磁隧道结
机译:FinFET技术中单事件机制分析的时空考虑。