Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan;
Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan;
Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan;
Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan;
Fukuoka University, 8-19-1 Nanakuma, Jonan-ku, Fukuoka 814-0180, Japan;
机译:热解气氛对氮化铝表面聚合物衍生的氧氧化碳氮化硅陶瓷膜形貌及硅橡胶复合材料导热性的影响
机译:氧化铝,二氧化钛,二氧化硅,氮化铝和氮化硅薄膜的中红外光学性质
机译:氧化铝,二氧化钛,二氧化硅,氮化铝和氮化硅薄膜的中红外光学性质
机译:铝表面在氧气气氛中蒸发形成氧化铝薄膜
机译:氧化锶铁/二氧化硅/硅和氧化锶铁/氧化铝薄膜系统的热稳定性:透射电子显微镜研究薄膜系统的界面结构和氧化锶铁/氧化铝的电导传感响应。
机译:隧穿原子层沉积氧化铝:硅结的表面钝化的相关结构/电性能研究
机译:氧离子流动和沉积速率的最佳平衡对电子束蒸发沉积氧化铝薄膜的吸收很小
机译:三氟(六氟乙酰丙酮)铝(III)和三(三氟乙酰丙酮)铝(III)在氩气氛中320℃ - 480℃的基板温度区间形成氧化铝薄膜