Technology Center Electronic Materials, Coating Effects Segment, Ciba Specialty Chemicals K.K. Japan;
non-ionic; photoacid generator; ArF; strong acid; chemically amplified resist;
机译:用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂的评估
机译:光酸产生剂浓度对化学放大抗蚀剂的灵敏度,光酸产生和脱保护的影响
机译:光偶联发电机 - 聚合物相互作用对极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂的量子产率
机译:用于化学放大的非离子光酸发生器:评价结果对应用相关性质
机译:使用pH敏感的荧光成像表征化学放大的光刻胶中光酸的生成。
机译:用于紫外或近紫外LED的碘鎓盐的设计用于光酸产生剂和聚合目的
机译:光酸发电机对化学放大抗蚀剂的结构效果。