Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koshi-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto 869-1116, Japan;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
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机译:光酸发生剂浸出对193 nm浸没式光刻中光学光污染的影响
机译:使用新的冲洗解决方案对193-NM常规和浸入光刻进行缺陷
机译:探索富含生育三烯酚的混合母育酚在肉类中的抗氧化功效,以及血管冲洗和冷冻技术的降胆固醇作用。
机译:功能模拟和浸入沙特传统漱口液后美学修复的微渗漏
机译:用特殊路由进行缺陷浸入光刻
机译:使用传统的商业抗蚀剂系统的低缺陷,高分辨率,亚微米电子束光刻