Department of Chemical Biomolecular Engineering, Cornell University, Ithaca, NY;
molecular glass resists; supercritical CO_2; EUV resists; E-beam lithography;
机译:超临界CO_2乳剂去除SU-8光刻胶图形的定量研究
机译:超临界CO_2配方对去除大剂量离子注入光刻胶的影响
机译:高剂量离子植入光致抗蚀剂在超临界CO_2配方中的剥离行为
机译:超临界CO_2用于高分辨率光刻胶发育
机译:在超临界二氧化碳中进行氟烯烃共聚,以形成157 nm光刻胶。
机译:低荧光和高分辨率光致抗蚀剂的细胞培养
机译:低反射率和高分辨率负色调光致抗蚀剂的发展
机译:冷却DI水/臭氧和CO(sub 2)基超临界流体作为光刻胶剥离溶剂替代品的比较