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机译:低反射率和高分辨率负色调光致抗蚀剂的发展
Dai Shiota; Yoshinori Tadokoro; Kunihiro Noda; Masaru Shida; Masaaki Fujii;
机译:低反射率和高分辨率负片光刻胶的发展
机译:纳米圆柱双同心长轴嵌段刷三元共聚物作为共价预组装的高分辨率和高灵敏度负音光刻胶材料
机译:用于下一代光刻的无机金属氧化物纳米颗粒光致抗蚀剂的非水负性显影
机译:大视场高分辨率光谱学:全反射空间外差光谱仪的开发,以及使用麦克马斯-皮尔斯主光谱仪的图像切片器得到的天文结果
机译:低荧光和高分辨率光致抗蚀剂的细胞培养
机译:低能量电子束光刻光致抗蚀剂材料的开发
机译:用于低分辨率抖动反射颜色的颜色集显示用于在反射颜色显示器中的低分辨率抖动的颜色集
机译:有机抗反射聚合物,用于制造超精细图案和4G DRAM半导体器件,因为它消除了由晶片上下层的光学特性以及光刻胶的厚度变化所引起的驻波
机译:铝铬酸盐金属离子的还原及其在光阻剂低金属底部抗反射涂层的合成中的应用
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